奈米(sio2)二氧化矽拋光液
我司系列產品均是以nm級高純矽粉為原料，經特殊工藝由磨粒分散於介質生產而成的一種高純度拋光產品，具有優良化學機械性能的研磨產品，可廣泛用於多種材料納米級的高平坦化拋光，如：矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料磷化銦、藍寶石片、金屬不銹鋼鋁鎂合金..等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光後容易清洗等特點。以不同種類、不同粒度的拋研磨效果產品、滿足不同的加工用戶需求、磨料硬度越高顆粒越大、其磨削效率越高、加工表面光潔度越低；相反磨料硬度越低、顆粒越小，其磨削效率越低、加工表面光潔度越高。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和鹼性拋光液。
產品的特點：
1. 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化矽粒子達到高速拋光的目地。
2. 粒度可控，根據不同需要，可生產不同粒度的產品。
3. 高純度、極低的雜質含量有效減小對電子類產品的沾汙、具有良好的分散穩定性。
4. 高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工。
拋光液(圖)
拋光液基本性質
型 號 | 粒 徑(nm) | 外 觀 | 比 重 | |
鹼性型號(PH9.8±0.5) | HY-8100E | 100nm | 乳白色液體 | 1.3±0.05 |
鹼性型號(PH9.8±0.5) | HY-8108E | 75nm | 乳白色液體 | 1.3±0.05 |
拋光液組成
化學性質： | ||
危害物質成分 | 成分百分比 | 化學文摘設登記號碼 CAS No.： |
二氧化矽(SiO2) | 40％ | 7631-86-9 |
水(H2O) | 60％ | - |
應用範圍：
1、矽晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化镓拋光;磷化銦拋光;光學晶體拋光;藍寶石襯底拋光;LED襯底拋光。
2、玻璃拋光;石英拋光,CMP拋光液；金屬不銹鋼鋁鎂合金。
包 裝：25Kg/桶。
儲 存：儲存溫度0~40 ℃，在0 ℃以下因產生不可再分散凝膠而失效，溫度高於40 ℃條件下儲存會促使微生物生長和加速凝膠化，縮短儲藏期。上述條件下鹼性拋光液可存放兩年左右，酸性拋光液可存放半年左右。